台湾纯水携手梅特勒托利多 展示半导体超纯水解方
在半导体产业持续追求高良率与永续制造的趋势下,用水品质管理与废水回收效率已成为重要课题。半导体制程水处理与回收专家台湾纯水(TAIPURE)将于SEMICON Taiwan 2026国际半导体展展示其高回收率废水处理技术,并结合全球超纯水监测领导品牌梅特勒托利多(METTLER TOLEDO) 的在线水质监测方案,协助半导体厂实现水系统智能化管理,提升水资源利用效率与系统稳定性。
台湾纯水针对晶圆切割、研磨与CMP等高浊度废水,开发出独家超滤系统。该系统采用日本Kuraray PVDF 亲水化超滤膜(UF),具备高通量与高强度特性,配合单边开放式结构,能有效防止悬浮固体(SS)在膜面堆积。该系统成功实现了97%的极致回收率(制程全过滤,无逆洗水),并具备24/7全天候长效稳定运行、完全零化学药剂添加、污泥减量与绿色减碳之物理净化优势。经实厂运行一整年,系统压差仅微幅增加 0.01~0.02 kg/cm²,且至今无须进行任何化学清洗保养,展现极佳的系统稳定性。
为落实智能化营运,系统更深度整合AI效能预测模型。透过结合线性回归(分析基线以掌握积垢基础速率)、XGBoost(进行残差学习以识别周期性操作规律)与EWMA(适应性偏差补偿以实时校准)三大演算法,实时预测系统压差趋势。经长达一年的实厂验证,其压差预测准确度高达 93.8% 至 98.5%,能提前发出杂质预警,确保系统不停机。
梅特勒托利多助力超纯水精准监测 守护晶圆良率
在半导体水循环中,去离子水回收(DIR)系统之入水与超纯水(UPW)的水质监控是确保产线稳定的关键命脉。微量有机污染物(TOC)可能促进微生物生长,TOC、微生物或离子一旦渗入制程,将会损害晶圆表面并导致缺陷,严重损害芯片良率。随着半导体产业积极追求水资源循环与提高回收效率,如何在强化DIR有效回收的同时,维持超纯水水质的极致稳定,已成为晶圆制造端不可忽视的核心课题。
为此,梅特勒托利多Thornton推出高精度在线超纯水监测技术,协助半导体业者在制程中实时掌握有机污染物与离子浓度变化,及早预警并采取因应措施,进一步提升制程可靠度与水资源管理效益。
该解方整合三大前瞻技术:首先,「UPW UniCond 导电度传感器」具备领先业界的测量稳定性与高抗噪性,降低环境与样品温度波动干扰,实时监测离子纯度并发出杂质预警;其次,专为极细微有机污染设计的「6000TOCi 总有机碳分析仪」,提供连续在线实时测量,可将运转所需的水样流量降至 8.5 mL/min,有效降低废水量,进而省下可观的营运成本;此外,系统整合「ISM智能传感器管理」技术,透过内建存储器自动传递校准数据,实现随插即测的快速安装,搭配「动态使用寿命指示器(DLI)」能针对 UV 灯具、过滤器等提供实时寿命预警,彻底缩短停机维护时间。
实现水系统一站式完美循环创造环境与经济双赢
台湾纯水的极致回收系统搭配梅特勒托利多的高精准度在线检测,成功建立起从超纯水的源头纯度控制,到末端回收水系统高效回收的完美智能循环。根据实厂数据评估,这套整合方案每日可为封测厂回收约 717 M³的水,减少738 M³的废水排放,每年净节省成本高达490万元,整套设备的投资回收年限仅为1.84 年。高精度在线监测与智能物理回收的双剑合璧,正是半导体制造商降低生产风险、提高芯片良率,并加速实现ESG永续目标的最佳实践。
台湾纯水与梅特勒托利多将于2026年9月2日(三)至 9 月 4 日(五)携手参展SEMICON Taiwan 2026,于二馆四楼摊位R7821展示半导体水系统智能化管理解方,欢迎产业先进莅临参观指教,欲知更多详情,点此浏览更多。
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