突破高效能AI多芯片封装的瓶颈
想知道如何解决玻璃通孔(Through Glass Via;TGV)制造过程中的微裂缝问题吗?如何提供1,000 瓦(W), 1伏特(V)与1000 安培(A)的电力给AI多芯片封装的IC芯片吗?如何增加玻璃面板尺寸以制造AI多芯片封装吗?诚挚地邀请您莅临Semicon Taiwan 2026成真公司摊位(南港展览馆1馆4楼 M0957)探索这些问题。
由于玻璃基板具备优异的热、机械与电气特性,已成为高效能AI多芯片封装极具潜力的平台。在2025年Semicon Taiwan 2025上,成真公司展出了聚合物通孔连接器(Through Polymer Via connector;TPV connector),提供内含垂直金属通道(vertical metal interconnect)的玻璃核心(Glass Core)新技术;此玻璃核心可以用于玻璃中介层(Glass Interposer)及BGA基板,用来解决TGV制造时在玻璃基板产生的微裂缝问题。
在今(2026)年Semicon Taiwan 2026,成真公司将展示多项创新解决方案,为高效能 AI 多芯片封装中的半导体 IC 芯片提供1,000瓦(W)、1伏特(V)及1,000安培(A)的电力。这些解决方案包括:于玻璃基板中嵌入铜块(Embedded Cu Block),作为电源(power supply)的垂直传输通道。将电压转换器/电压调节器(Voltage Converter/Regulator;VCR)芯片封装于AI多芯片封装中,使封装能够输入高电压电源(例如48V),并利用以铜块为基础的低电阻供电系统输入VCR,VCR再将高电压(例如48V)降至低电压(例如1V),以供多芯片封装中的半导体IC芯片使用。
于玻璃基板上方的金属连线架构(Frontside Interconnection Scheme)中嵌入矽桥(Si Bridge)、深沟槽去耦电容(Deep-Trench Decoupling Capacitor;DTC)及VCR芯片,提升系统整合能力并简化封装制程。于AI多芯片封装边缘配置电性/光学连接器(Electrical/Optical Connectors),取代传统AI多芯片封装底部的焊锡凸块(Solder Bumps),作为与外部电路的连接。
基于上述的创新技术与架构,成真公司开创了多芯片封装的新时代,成功将摩尔定律延伸至玻璃基板系统封装时代,加速高效能运算与AI应用的全面发展。
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